Extreme Ultra-violet
EUV lithography is described in detail
用于高端逻辑半导体量产的EUV(Extreme Ultra-Violet,极紫外线光刻)曝光技术的未来蓝图逐渐“步入”我们的视野,从7nm阶段的技术节点到今年(2019年,也是从今年开始),每2年~3年一个阶段向新的技术节点发展…
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EUV lithography equipment market
根据外媒报导,已经多年蝉联全球半导体设备龙头的美商应材公司(Applied Materials),2019年可能将其龙头宝座,让给以生产半导体制造过程中不可或缺曝光机的荷兰ASML,原因是受惠即紫外光刻设备(EUV)的市场需求大增,进一步拉抬了ASML的市占率表现…
光刻技术指利用光学-化学反应原理,将电路图转移到晶圆表面的工艺技术,光刻机是光刻工序中的一种投影曝光系统。其包括光源、光学镜片、对准系统等。在制造过程中,通过投射光束,穿过掩膜板和光学镜片照射涂敷在基底上的光敏性光刻胶…