新闻中心

EEPW首页 > EDA/PCB > 业界动态 > 国内首台40nm明场纳米图形晶圆缺陷检测设备发布

国内首台40nm明场纳米图形晶圆缺陷检测设备发布

作者: 时间:2024-07-16 来源: 收藏

近日,天准科技参股的苏州矽行半导体技术有限公司(以下简称“矽行半导体”)宣布,公司面向技术节点的设备TB1500已完成厂内验证,标志着国产半导体高端检测设备实现了新的突破。

本文引用地址://www.cazqn.com/article/202407/461049.htm

这是继去年8月,天准科技正式交付面向12英寸晶圆65~90nm技术节点的宽波段明场缺陷检测设备TB1000不到一年后,再次取得的阶段性新进展。

资料显示,矽行半导体成立于2021年11月,专注于高端设备及零部件的研发、生产和销售。本次产品TB1500是矽行半导体最新的研发成果,核心关键部件全部实现自主可控,同时采用了先进的信号处理算法,有效提高信噪比和检测灵敏度。为了满足技术节点的工艺制程需求,TB1500提升了光源亮度和感度,增大了物镜视野和速度,能够捕捉更小缺陷尺寸。

据悉,矽行半导体面向28nm技术节点的TB2000设备当前进展顺利,各核心零部件均已完成开发,计划于2024年底发布样机。

此外,天准科技在半导体设备领域持续发力。全资子公司MueTec研发的面向12英寸技术节点的DaVinci G5设备,经过大量的晶圆实测数据验证,表现优异。与前两代产品相比,该设备提升了重复性、吞吐量和高深宽比套刻标记识别能力,将在满足大规模生产的需求下,使复杂芯片图案的套刻精度检测成为可能,极大地提高制造效率。




评论


相关推荐

技术专区

关闭