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开始1-γ芯片制程开发?美光日本厂拟引入ASML光刻机

作者: 时间:2023-05-18 来源:全球半导体观察 收藏

知情人士称,美国科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰公司的先进芯片制造设备EUV(极紫外),以制造下一代存储芯片(DRAM)。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元(15亿美元)的补贴。

本文引用地址://www.cazqn.com/article/202305/446738.htm

日本经济产业大臣西村康稔之后证实了在日的进一步投资。他指出,日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性,也有意在广岛开始大规模生产先进存储芯片。

今日(周四),日本首相岸田文雄会见了美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团,而有关芯片的详细计划可能在之后陆续宣布。

自2013年以来,美光已经在日本投资超过130亿美元,其中包括去年宣布的



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